OTF-1200X-III-R5-PECVD是一款1200℃等離子增強化學氣相沉積三溫區(qū)回轉管式爐系統（R-PECVD），等離子增強系統的引入可在相對較低的溫度下實現粉末表面的包覆復合、核殼結構制備等工藝過程。自動進出料系統可實現連續(xù)生產，可保證在氣氛保護環(huán)境下進行粉體的進給和收集，包含射頻電源（帶自動匹配功能）、四通道質子流量計控制系統及真空泵系統，可由PLC觸摸屏或PC電腦控制，使用方便快捷。

產品型號：OTF-1200X-Ⅲ-R5-PECVD
廠商性質：代理商
更新時間：2024-12-04
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產品分類CLASSIFICATION

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詳細介紹

產地類別	國產	應用領域	化工,能源,電子
加熱爐參數：	最高溫度：1200℃（<30min）；連續(xù)工作溫度：1100℃；

    產品特點：

    •爐體在0-25°內傾斜，有利于粉末樣品的裝卸；

    •齒輪驅動管式爐旋轉可有效地提高復合粉末熱處理的均勻性；

    •四通道質子流量計控制系統可以對氣體的輸送進行精確的調控；

    •配備自動進出料系統可實現連續(xù)生產，可保證在氣氛保護環(huán)境下進行粉體的進給和收集。

    加熱爐參數：

    三溫區(qū)回轉爐

    •最高溫度：1200℃（<30min）；連續(xù)工作溫度：1100℃；

    •三個PID溫度控制器及30段可編程溫控系統，控溫精度：±1℃;

    •輸入功率：208-240V，單相，最大功率：4KW；

    •高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗；

    •回轉爐旋轉速度：2-10rpm；

    •爐體開啟式設計以達到對樣品快速降溫，方便更換爐管。

    射頻電源：

    真空系統：

    •·采用TRP-12的雙旋真空泵；

    •KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵；

    •真空度可達10-2Torr。

    供氣系統（可選）：

    •客戶可選購四通道質子流量計控制系統實現氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）;

    •流量范圍：

    •電壓：208-240V，AC，50/60Hz；

    •氣體進出口配件：6mmOD的聚四氟管或不銹鋼管;

    •不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出；

    •PLC觸摸屏可以簡便地進行氣體流量設置。

    產品尺寸和重量：

    •設備尺寸：2800mmL'800mmW'1700mmH

    •供氣系統：600mmL'700mmW'700mmH

    •凈重：180kg

    承諾：

    一年保質期，終身維護，不包括爐管，硅膠密封圈和加熱元件

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